【产品名称】1700℃-CVD管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm 【额定温度】1700℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统 【炉管尺寸】φ40--φ100mm 【加热区】300mm/440mm 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成。

【产品名称】1700℃立式管式炉 【炉管尺寸】φ40--φ100mm 【加热区】300mm 【额定温度】1700℃ 【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃立式管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

STGZ-100-14立式淬火炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

STGL-336-12-3 多管立式管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业、石油化工、航空航天等行业的金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料、粉末冶金等新材料领域的烧结和高温热处理。

【产品名称】1700℃三温区立式管式炉 【炉管尺寸】φ40--φ100mm 【加热区】200mm+200mm+200mm 【额定温度】1700℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃ 三温区立式管式炉通过CE认证，额定温度1700℃，炉管采用刚玉管，三个温区采用独立的控制系统，通过温控调节可形成三个不同的梯度温场，炉盖开启式结构，PID30段程序控温，适用于精密陶瓷等新材料的热处