【产品名称】1200℃回转可倾管式炉 【炉管尺寸】φ25-φ100mm 【加热区】300mm 【额定温度】1200℃ 【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃可倾斜管式炉工作温度1100℃，主要用于实验室粉末物料的高温热处理，可在真空或者保护气氛下使用；底部装有电动升降装置，可使炉体倾斜30°，进出料非常方便；采用7英寸大屏幕触控仪表，带有数

【产品名称】大管径回转管式炉 【炉管直径】φ300mm 【加热区】600mm 【额定温度】1200℃ 【电源电压】AC380V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃回转管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域；

产品名称】1200℃回转可倾管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm 【额定温度】1200℃ 【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃回转可倾管式炉额定工作温度1100℃，主要用于实验室粉末物料的高温热处理，可在真空或者保护气氛下使用，电驱动炉管可旋转，转速可调，回转烧结物料会非常均匀的受热；底部装有电动升降装置，可使

【产品名称】1200℃回转管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm 【额定温度】1200℃ 【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃回转管式炉应用于高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室高温热处理工艺，适用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

【产品名称】1400℃-CVD管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm 【额定温度】1400℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm+300mm 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。