【产品名称】1700℃气氛箱式炉 【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1700℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

【产品名称】1400℃气氛箱式炉 【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1400℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1400℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

【产品名称】1200℃气氛箱式炉 【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

【产品名称】自动门高真空炉-467L 【炉膛容积】467L 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

【产品名称】1200℃真空炉（带观察窗） 【炉膛容积】96L 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

【产品名称】1200℃真空炉（扩散泵机组） 【炉膛容积】30L 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1200℃真空气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。