1700℃三温区立式管式炉通过CE认证，额定温度1700℃，炉管采用刚玉管，三个温区采用独立的控制系统，通过温控调节可形成三个不同的梯度温场，炉盖开启式结构，PID30段程序控温，适用于精密陶瓷等新材料的热处理，加热区长度可以按照客户的实际需求定制。

1200℃立式电阻管式炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

实验室管式真空气氛电阻炉 【产品名称】1700℃真空气氛管式电阻炉 【炉管尺寸】φ40--φ100mm 【加热区】300mm 【额定温度】1700℃ 【电源电压】AC220V/50Hz 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃真空气氛管式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

实验室箱式气氛炉 【产品名称】1700℃气氛箱式炉 【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1700℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1700℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

实验室箱式气氛炉 【产品名称】常温-1400℃气氛箱式炉 【炉膛容积】3L--45L 【额定温度】1400℃、 【长期温度】：1300℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】1400℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。

实验室箱式气氛炉：1200℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。